w局部弯曲使用方法：
1、在前视基准面上绘制草图 圆：直径50
2、拉伸凸台：给定深度350
3、在上视基准面上绘制草图
4、旋转凸台：勾选合并结果
5、倒圆角：半径2
6、线性阵列：阵列方向选择基准轴，反向距离10数量28要阵列的特征选择旋转凸台和圆角
7、抽壳：厚度1要去除的面选择两个端面
8、弯曲：选择实体勾选折弯角度120度基准面1剪裁距离35基准面2剪裁距离35
