S1、将硅片放置清水中浸泡20分钟，以去除硅片上的大部分砂浆
S2、使用清水喷淋硅片30秒~60秒，以去除浸泡后硅片上残留的少量砂浆
S3、使用频率为20KHz-1MHz、功率密度为0.5-1.0W/cm2的低频超声波及频率为2MHz-3MHz、功率密度为0.1-0.5W/cm2的高频超声波对硅片进行10秒的超声处理，且低频超声波功率密度保持在高频超声波功率密度的3倍以上
S4、使用频率为20KHz-1MHz、功率密度为0.1-0.5W/cm2的低频超声波及频率为2MHz-3MHz、功率密度为0.3-1.0W/cm2的高频超声波对硅片进行20秒 的超声处理，且高频超声波功率密度保持在低频超声波功率密度的3倍以上
S5、使用频率为20KHz-1MHz、功率密度小于0.1W/cm2的低频超声波及频率为2MHz-3MHz、功率密度为0.1-1.0W/cm2的高频超声波对硅片进行40秒的超声处理
