1、电解抛光
电解抛光是靠选择性的溶解材料表面微小凸出部分，使表面光滑。与化学抛光相比，可以消除阴极反应的影响，效果较好。电化学抛光过程分为两步:
(1)宏观整平溶解产物向电解液中扩散，材料表面几何粗糙下降，Ra>1μm。
(2)微光平整阳极极化，表面光亮度提高，Ra<1μm。
2、机械抛光
机械抛光是靠切削材料表面塑性变形去掉被抛光后的凸部而得到平滑面的抛光方法，一般使用油石条、羊毛轮、砂纸等，以手工操作 为主，特殊零件如回转体表面，可使用转台等辅助工具，表面质量要求高的可采用超精研抛的方法。超精研抛是采用特制的磨具，在含有磨料的研抛液中，紧压在工件被加工表面上，作高速旋转运动。利用该技术可以达到Ra0.008μm的表面粗糙度，是各种抛光方法中更高的。
