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芯片电镀工艺流程
更新时间:01-26
综合
由 颜面 分享
①在硅片上溅射钛、钛钨等金属作为黏附层,再溅射很薄的一层金作为电镀的导电层
②涂布光刻胶,光刻显影出电镀所需的图形
③清洗后进行电镀金
④褪除光刻胶
⑤蚀刻图形以外的导电层
⑥退火。
标签:
# 光刻
# 工艺流程
# 芯片
# 图形
# 硅片
声明:关于《芯片电镀工艺流程》以上内容仅供参考,若您的权利被侵害,请联系13825271@qq.com
本文网址:
http://www.25820.com/all/15_6772821.html
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