硅与氢氟酸反应的离子方程式是什么

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硅(Silicon),是一种化学元素,化学符号是Si,旧称矽。原子序数14,相对原子质量28.0855。

1. 氢氟酸和硅反应的离子方程式是:Si+4HF=SiF4+2H2(H2后面加气体符号)。

2. 氢氟酸是氟化氢气体的水溶液,清澈,无色、发烟的腐蚀性液体,有剧烈刺激性气味。熔点-83.3℃,沸点112.2℃,密度0.888g/cm³。易溶于水、乙醇,微溶于乙醚。

3. 因为氢原子和氟原子间结合的能力相对较强,使得氢氟酸在水中不能完全电离,所以理论上低浓度的氢氟酸是一种弱酸。

4. 具有极强的腐蚀性,能强烈地腐蚀金属、玻璃和含硅的物体。如吸入蒸气或接触皮肤会造成难以治愈的灼伤。实验室一般用萤石(主要成分为氟化钙)和浓硫酸来制取,需要密封在塑料瓶中,并保存于阴凉处。

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